HELOS/BR 레이저 회절측정장치, 측정지역에는 건식/습식 분산기 또는 샘플 커플러등을 장착할 수 있으며, 0.1 µm에서 875 µm (8750 µm 의 경우에는 HELOS/KR또는 HELOS-VARIO/KR가 적용됨)범위의 입도분석을 실행할 수 있다.
입증된 레이저 회절측정기인 HELOS 측정장치는 0.1 µm에서 8750 µm의 전체범위에 대하여 단일 측정 원리 (병렬 레이저 빔에 의한 레이저회절)를 사용하는 첫 번째 시스템입니다. 전체 측정범위에 대하여 두 가지의 평가 모드 제공되는데, 하나는 사전 입역 매개변수가 없는 Fraunhofer 회절인 FREE와 정밀한 Mie이론에 기초한 방법인 MIEE가 전체 측정범위에 대하여 선택사항으로 제공되며, 이 두 가지 이론에 대하여 고정밀 광역분포분석에 탁월한 방법으로 적용될 수 있는 렌즈별 측정범위의 결과 결합기능도 가능하다.
그것은 입자 크기 분석, 즉, 분말, 액상부유체, 유화액 및 스프레이등의 건식과 습식시료의 입도분석을 실행하는 전통적인 기술의 장치이며, 전적으로 ISO 13320 규정인 "Particle Size Analysis- laser diffraction method"에 기초하여 제작되었으며,일반 표준 미터에 대한 ± 1% 편차를 가지도록 설계된 고정밀의 절대측정장치이다.
높은 해상도와 보장된 재현성이 고속 데이터 수집, 네트워크 인터페이스와 모든 Sympatecs 장치를 지원하는 표준 WINDOX 소프트웨어와 결합하여 매우 우수 솔루션을 창출한다.
HELOS 분석 시스템은 모듈식 구성으로 분석대상물질에 알맞은 분산장치를 이상적으로 결합하도록 설계되었다.
HELOS의 특징
(Helium-Neon Laser Optical System)
HELOS는 전체 Sympatec 광회절측정장치를 대표하며, 모두 동일한 기술이 적용되며 그 종류는 다음과 같다::
| 모델 | 측정범위 | 응용 | |
| HELOS | /BR | 0.1 ~ 875 micron |
실험실용 / 자동화 실험실용 |
| /KR | 0.1 ~ 8750 micron |
실험실용 / 자동화 실험실용 |
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| VARIO | /KR | 0.1 ~ 8750 micron |
실험실용 / 자동화 실험실용 |
| MYTOS | 0.25 ~ 3500 micron |
현장분석용 / 고엉투입 현장분석용 |
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전체 HELOS측정장치의 일반적 특징 및 성능:
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632.8 nm 의 병렬 레이저 빔에 의하여 0.1 µm에서 8750 µm의 범위에 대하여 단일측정이론을 적용하며, ISO 13320규정을 완벽하게 호환한다. |
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절대 정확도 일반적으로 표준 미터를 기준으로 ± 1% 이내. |
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높은 정밀도 입도분석의 고정밀도와 고분해능을 위하여 특별히 설계된 (푸리에)렌즈가 소프트웨어에 의하여 자동으로 선택되어질 수 있고, 최대 8개까지의 선택이 가능하다. |
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분말, 액상부유체, 에어로졸, 유화액 및 스프레이등의 분석대상물질에 따라 분산장치가 선택되어지는 모듈형 디자인 구조. |
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자동교정기능의 정밀 반원형 (180 °) multi-element 광검출기가 회절 패턴을 인식하기에 이상적으로 설계되어졌다. (특히, 비 구형 입자에 적용이 완벽함) |
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자동 적응 분석범위의 선정에 따른 분석광선직경의 자동화 기능이 있어, 에어로졸 및 스프레이등의 분석에 있어 매우 넓은 유효측정범위를 확보할 수 있다. |
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FREE (Fraunhofer E nhanced Evaluation)이론에 의한 분포의 평가는 광학 매개 변수가 불필요한 Fraunhofer이론을 0.1 µm이하로도 적용이 가능하며,
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입도분석결과의 평가 및 장치제어용 프로금램인 WINDOX 5 소프트웨어
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어떤 방향에서 센서의 작업, 즉 상부지향 및 하부지향 시료진행 응용 등에 적용이 가능하도록 모든 방향에서의 측정이 가능하도록 설계된 강력 금속재질의 통합 정밀 광학 벤치의 적용.
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통신:
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22MYTOS의 사양은 MYTOS을 참조 하십시오.
