乾式分散器内蔵のレーザー回折式1インラン粒度分布装置です。
対応粒径は0.25〜3500μmです。製造プロセスにおいてのインライン・オンライン・アットライン測定に最適です。
測定部(MYTOS)とサンプリング機構(TWISTER)はすべて配管内に組み込まれます。製造ラインに応じて最適なモジュールが選択されます。対応配管は100mmから200mmです。
対応配管径は35 mm〜660 mmです。測定部(MYTOS)は配管の外に設置することが可能です。
GMP対応仕様に電解研磨をしたシステムも取り揃えております(対応配管径: 50 mm〜150 mm)。また、カスタマイズも可能です。
既にお使いのサンプラーと組合すことができ、また、壁に取り付けマニュアルでサンプリングした試料をその場で測定することができるアットライン測定タイプです。電磁フィーダを用いることでサンプル量を調整し、測定試料濃度をコントロールすることが出来ます。
製造ラインには何も組み込まず、測定部本体とその他測定に必要な電気系統をトロリーに収納した、可動式粒度分布測定機です。マニュアルでサンプリングした試料やロボット等を使ってサンプリングした試料をその場で測定するタイプです。
危険度の高い試料を取り扱う場合、出来るだけ早く製造ラインのすぐ近くで測定した場合、大量の試料を現場環境下で測定したい場合に使われます。現場環境下での使用に優れ、また測定結果をその場で確認できるという利点があります。
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プロセス計測 |
| 概要 |
![]() |
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レーザー回折法 |
| 計測/分散部MYTOS |
| MYTIS |
| MYTOS&VIBRI モジュール |
動的画像法 |
| PICTOS |
| PICTIS |
| PICCELL |
超音波透過法 |
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サンプラー |
| TWISTER |
| SAFIR |
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ソフトウエア |
| WINDOX 5 |
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アクセサリー |
| コンピュータ |
| VIBRIシリーズ |
| 集塵機 |
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インフォメーション |
| 文献 |
