|
Verkauf |
| News |
|
Kontakt |
| Verkaufs- organisation |
| Veranstaltungen |
|
Applikations- labor |
| Service |
| Mitarbeiter & Ausrüstung |
| Kontakt |
Die früheren Veranstaltungen befinden sich unter Veranstaltungsarchiv .
Mikrodosierer ASPIROS/L für Bildanalyseanwendungen
Wenn lediglich geringe Mengen wertvoller oder toxischer Materialien analysiert werden sollen ist der Mikrodosierer ASPIROS/L die ideale Ergänzung zum RODOS/L. Die gekapselten Probenröhrchen können Mikro- bis Milligrammproben aufnehmen. Der Barcode-Leser identifiziert die Probe, und die korrekten Dispergierbedingungen werden automatisch eingestellt. Mehr ... Archiviert am 20 Mai 2006 |
Hochgeschwindigkeitsbildanalyse an bis zu 107 Partikeln pro MessungQICPIC in Kombination mit RODOS/L wurde für statistische Untersuchungen an Kaffeepulver eingesetzt.
Bis zu 107 Partikel wurden in Echtzeit gemessen uns gespeichert, wobei sich zeigte, daß mehr als 2,000,000 Partikel notwendig sind, um eine maximale Standardabweichung von Q3 < 1%. zu gewährleisten. Archiviert am 20 Mai 2006 |
Photonkreuzkorrelationssensor NANOPHOX
Partikelgrößen- und Stabilitäts- analyse von Nanopartikeln im Bereich von 1 nm bis 10 µm in opaken Suspensionen oder Emulsionen mit leistungsfähiger Photonkreuzkorrelation (PCCS). Mehr ... Archiviert am 20 Mai 2006 |
WINDOX 5.2.2 konsolidiert die Weiterentwicklung im Bereich Bildanalyse von Fasern.
|
Bildanalyse von FasernWINDOX 5.2.1 erweitert die Auswertemodi des QICPIC für Fasern. Partikelgallerie von Fasern, Jetzt können bei Bedarf die Länge (LEFI = length of fibres) und die Durchmesser (DIFI = diameter of fibres) ausgewertet und in Grafik und Report ausgegeben werden. Auch auf Fasern mit komplexer Topologie anwendbar. Archiviert am 20 Mai 2006 |
Neueste nachrichten aus der ZementindustrieNach mehreren bedeutenden Installationen in der Chinesischen Zementindustrie hat Sympatec mit SINOMA International Nanjing Cement Industry Design & Research Institute einen Kooperationsvertrag abgeschlossen. Im Dezember 2005 hat SINOMA entschieden Sympatec-Laserbeugungs-ausrüstung auf dem Chinesischen Markt zu fördern und Sympatec’s Technik in zukünftige neue einheimische und ausländische Anlagenprojekte zu integrieren. Dieses umfaßt den gesamten Bereich von at-line Laboranwen-dungen bis hin zur Automation. SINOMA nutzt selbst ein Sympatec HELOS & RODOS -Laserbeugungspartikelgrößen-analysesystem in ihrem eigenen Entwicklungslabor in Nanjing. Archiviert am 20 Mai 2006 |
Dual-core Workstations jetzt von WINDOX 5.2.1 unterstütztWINDOX 5.2.1 unterstützt Intel's neueste dual-core-Prozessor- Serie Pentium D820/D840, die jetzt bei Sympatec mit der Celsius W340 Familie von Fujitsu-Siemens und der xw4300 Serie von Hewlett-Packard bezogen werden. Diese leistungsfähigen Workstations werden besonders für berechnungsintensive Bildanalyseapplikationen empfohlen. Im Vergleich mit Standard-PCs sind typische Zeiteinsparungen um Faktoren bis zu 1.7 (1.9 mit WINDOX 5.2.2) beobachtet worden. Mehr ... Archiviert am 20 Mai 2006 |
WINDOX 5.2.0 unterstützt den Photonkreuzkorrelationssensor NANOPHOXDie Freigabe dieser validierten Version von WINDOX 5 unterstützt Sympatec's komplette Familie von Partikelgrößenmeßsystemen (d.h. HELOS, MYTOS, QICPIC, NANOPHOX, OPUS, NIMBUS) in englischer, deutscher, französischer und japanischer Sprache. Mehr ... Archiviert am 6 April 2006 |
ATEX Zertifikat für MYTOS & TWISTERIn-line Laserbeugung mit repräsentativer Probennahme und integrierter Trockendispergierung ist jetzt für Gefahrenbereiche konform mit den jeweiligen ATEX-Spezifikationen lieferbar. |
World Forum for the Process Industries
Frankfurt am Main,
15 - 19 May 2006
28. International Exhibition-Congress on Chemical Engineering, Environmental Protection and Biotechnology
Visit our booth on a virtual tour
Analytica 2006 - 20zigste Internationale Messe und Analytica Konferenz
München
25 - 28 April 2006
Trend setzende Messe für marktfähige Lösungen in der Analytik- und Laborindustrie begrüßt Sie auf ihrem Portal.
Bitte besuchen Sie unseren Stand.
57th Pittsburgh Conference on Analytical Chemistry and Applied Spectroscopy
Orlando, FL, USA
12 - 16 March 2006
Exposition March 13 - 16.
Please visit our booth.
